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一般冶煉方法得到的金屬和合金，在大多數情況下并不能滿足電子器件制造的要求。即使是最完善的電解法，也難以完全去除對電子器件有害的雜質。
因此，在制造電子器件的內部零部件時，通常采用近年來發展起來的先進冶煉方法制得的高純金屬與合金。若使用普通冶煉法得到的金屬與合金，也必須通過現代最完善的提純工藝，盡可能清除雜質。
目前能夠生產少雜質高純金屬的先進冶煉方法主要包括：
1. 粉末冶金法
通過將金屬粉末壓制、燒結，獲得高純度金屬和合金。
2. 金屬熱還原法
在真空、還原性介質或惰性氣體中，利用化學還原反應制取金屬。
此外，真空熔煉、惰性氣體熔煉等方法不僅適用于高純金屬的制備，也適用于對普通冶煉法所得金屬進行進一步提純。
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