一般冶煉方法得到的金屬和合金,在大多數(shù)情況下并不能滿足電子器件制造的要求。即使是最完善的電解法,也難以完全去除對電子器件有害的雜質(zhì)。
因此,在制造電子器件的內(nèi)部零部件時,通常采用近年來發(fā)展起來的先進(jìn)冶煉方法制得的高純金屬與合金。若使用普通冶煉法得到的金屬與合金,也必須通過現(xiàn)代最完善的提純工藝,盡可能清除雜質(zhì)。
目前能夠生產(chǎn)少雜質(zhì)高純金屬的先進(jìn)冶煉方法主要包括:
1. 粉末冶金法
通過將金屬粉末壓制、燒結(jié),獲得高純度金屬和合金。
2. 金屬熱還原法
在真空、還原性介質(zhì)或惰性氣體中,利用化學(xué)還原反應(yīng)制取金屬。
此外,真空熔煉、惰性氣體熔煉等方法不僅適用于高純金屬的制備,也適用于對普通冶煉法所得金屬進(jìn)行進(jìn)一步提純。
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