微波無極紫外設備

JYM-3000紫外光清洗設備

光清洗設備
材料表面清洗
材料表面改性
UV氧化反應
產品描述：使用短波長紫外線UV表面清洗、表面改性技術，用清潔高能紫外線光源，對材料進行處理后可得到極其清潔的表面和強力的表面接著性。改性的基本的反應就是UV引起的氧化反應。UV照射固體表面后，表面的污染物被氧化，而后被分解成CO2和H2O等易揮發性物質，最終揮發消失。并且表面形成有利表面接著的如OH，COO，CO，COOH等親水性原子團，被改性的表面接著性得到飛躍性地提高。
在線訂購

產品簡介：

一般工業或高科技領域使用的一些材料具有非常高的性能，對環境也非常友好，但這些材料的接著性、印涂性等一般都非常差。本公司提供的短波長紫外線（UV）表面清洗、表面改性技術，用清潔的高能紫外線光源，對上述材料進行處理后可得到極其清潔的表面和強力的表面接著性。
改性的基本的反應就是UV引起的氧化反應。UV照射固體表面后，表面的污染物被氧化，而后被分解成CO2和H2O等易揮發性物質，最終揮發消失。并且表面形成有利表面接著的如OH，COO，CO，COOH等親水性原子團，被改性的表面接著性得到飛躍性地提高。
UV光源技術的進步保證了UV/O3表面改性技術充分發揮其突出的優越性。UV/O3表面改性技術因能處理得到極高的清潔度與表面接著性，在固體表面處理中越來越得到廣泛的應用。
紫外光清洗的特點：
○大氣中處理，簡單、方便、環保，無二次污染，無需加熱、藥液等處理。
○清潔度極高，單分子層以下，可以得到從前的處理方法難以想象的接著性。
○國內獨有超高出力短波長紫外線光源，僅需短時間（秒單位）照射，便能發揮強大的處理能力，顯著提高生產效率。
○對絕大多數塑料成型品照射有效，適用性廣。
○可避免大量消耗藥液、熱能等，運行成本低。

紫外光清洗的技術應用范圍：
主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中采用光清洗方法最為合適。
主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。
可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(紫外光表面質變)的特點，目前在液晶顯示器STN的生產過程中，主要是用在膜處理技術上，對于改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層，TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產品，用于納米技術研究，產品經此UV光照射發生化學反應，使產品表面性質改變。